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俩人换好衣服鞋子手套头套,来到产线。
“杨工,介绍一下现在的情况吧。”纪弘引这于东站在产线正在工作的光刻机屏幕之前,喊来总工程师,如此说道。
“无限套刻测试一直在循环进行,目前,极端线宽已经做到了22nm……”
于东听到22nm的时候,内心还一笑,这也不高嘛。
但是随即反应过来,当即惊呼道:“多少?”
这他么是220nm的光刻机啊,搞我玩儿呢吧,而且这玩意儿用的是i线365nm的光源啊!
华为利用SAQP技术实现4倍精度的光刻,这其中有多困难,只有做过才知道。
而且良率从几乎没法看到现在的渐渐提高,也经历了非常漫长的时间——说白了,这玩意是实在没办法了才去搞的。
如果国内有EUV,何至于费这么大的劲!
“10倍精度!22nm!”杨工程师确认道。
“你们用的什么方法?”于东没有怀疑杨工骗他,这东西就在这儿,骗他没有任何意义,纪弘想跟他谈什么,也不差这一点筹码。
“最简单的方法。”杨工程师也是认真的回复道:“就是把需要光刻的图分到多个掩膜版上,然后一遍一遍的重复光刻-刻蚀-光刻-刻蚀……就这样。”
“这……”这种方法于东当然知道,就是最原始的方法。
但是精度怎么控制啊?这东西在所有的工艺节点上,量产工艺,就没有做过双重以上的,最多就是双重。
理论倒是非常简单,但做起来那是非常的困难。
不仅是工件台的移动精度问题,有非常多的问题需要解决。